2D-Fotolithografiesystem mit direktem Laserschreiben
Publikationsdatum
04.08.2021
Beschreibung
Die EPFL beabsichtigt, ein 2D-Fotolithografiesystem mit direktem Laserschreiben für das CMi, die multidisziplinäre ISO-5-Reinraumplattform der EPFL, zu erwerben. Dieses Belichtungsgerät verwendet eine Hochleistungs i-Line Lichtquelle (365 nm - 440 nm), um traditionelle Photoresists auf Novolak-Basis und alle UV-empfindlichen Polymere direkt zu belichten (keine Fotomasken erforderlich). Die fortschrittliche Projektionstechnologie ermöglicht das Drucken von 2D-CAD-Mustern (in den Dateiformaten GDS, CIF, DXF, OAS) ohne Dimensionsbeschränkungen mit hoher Geschwindigkeit (<20 Minuten pro Fläche von 100 * 100 mm2) mit guter Überlagerungsgenauigkeit (mit bestehenden Strukturen) und minimalen Stichfehlern (Feld-zu-Feld-Fehlausrichtung).
Kontakt
Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL)
Dr. Philippe Flückiger
Bâtiment BM 1.128 – Station 17
1015 Lausanne
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