Nasswerkbänke für FIRST II im Neubau ETH HPQ: Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (ausser Gläser)

Ausgeschrieben werden die Planung, Lieferung, Montage, der Anschluss sowie die Inbetriebnahme von insgesamt 12 modularen Nasswerkbänken mit einer Länge von je ca. 2,4 m für Prozessanwendungen im Reinraum FIRST II.

Die Anlagen dienen der nasschemischen Bearbeitung von 200-mm-Wafern bei geringem Chemikalienverbrauch. Je nach Ausführung umfassen die Nasswerkbänke Prozess- und Spülbecken, Ultraschallbecken, Wasser- bzw. Wafer-Spinner, Spinc oater mit Hotplates, Handwaschbecken sowie Medien-, Elektro- und Entsorgungsanschlüsse. Vorgesehen sind unterschiedliche Ausführungen für Lithografie- und Nasschemieprozesse, einschliesslich separierter Bereiche für Medien- und Abwasserströme (u. a. Laugen, Säuren und HF).

Alle Nasswerkbänke sind reinraumtauglich auszuführen. Sie müssen über eine Abluftüberwachung mit eindeutiger Störungsmeldung und Fehlerprotokollierung verfügen.

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