Equipement de photolithographie 2D d’écriture directe par laser

Publikations­datum

04.08.2021

Meldungs­nummer

1211721

Art

Ausschreibungen Bau

Kanton

Eingabetermin

13.09.2021

Beschreibung

L’EPFL cherche à acquérir un équipement de photolithographie 2D d’écriture directe par laser pour le CMi. Cet équipement d’exposition utilise une source de lumière i-line pour exposer directement (sans photo-masque) les photo-résines de famille « novolak », traditionnelles et standards dans l’industrie, ainsi que toutes polymères sensibles UV. La technologie avancée de projection permet d’imprimer des designs 2D réalisés par ordinateur (au format GDS, CIF, DXF ou OAS), sans restrictions de dimensions, à haute vitesse (< 20 minutes pour une surface de 100*100 mm2) avec une bonne précision d’alignement (avec les structures existantes) et un minimum d’erreurs de superposition (désalignement champ à champ). L’équipement doit être flexible et capable d’exposer des échantillons de dimensions variées, tels que des wafers standards « SEMI », des photo-masques, mais également des chips sciés jusqu’à des dimensions inférieures à 10mm*10mm.

Kontakt

Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL)
Dr. Philippe Flückiger
Bâtiment BM 1.128 – Station 17
1015 Lausanne

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